https://www.google.com/url?sa=t&;source=web&rct=j&url=https://www.meti.go.jp/press/2021/06/20210604008/20210603008-4.pdf&;ved=2ahUKEwigyc2ShNPzAhWLwZQKHaawByQQFnoECBoQAQ&usg=AOvVaw0YvtQnK8C2zkDHXfpCdRHI

ここの17ページに産総研のパイロットライン事業の記載がある

>　2nmノード先端３次元ロジック半導体（Nanosheet構造)を作製可能なプラットフォーム（PF）整備（約20台の装置を新規導入）

>半導体素子のさらなる微細化による高性能化のためには、新構造・新材料のプロセス技術適用が不可欠。
>　2nmノード世代以降（新構造トランジスタ；GAAナノシート）において必要となる新規の前工程製造プロセス技術を開発するとともに、
>共用パイロットラインの構築等により、微細加工を施したウェハーでの評価検証を実施し、先端半導体の製造技術を確立する。

現行5nmラインの話じゃないけど装置メーカーとの共同研究のためにパイロットライン作るのはこれまでもあったよ