10nmで苦戦するIntel、問題はCo配線とRuバリアメタルか
https://eetimes.jp/ee/articles/1902/18/news024.html
この記事だとIntelの10nmの問題は
・コバルト配線のCMP（化学機械研磨）における欠陥
・コバルト含有のルテニウムによるバリアメタルのCMPがうまくいかない
となっている
バリア層にルテニウム使っているとは知らなかった
CMPがうまくいかずぴったりと埋められてないと大問題で当然不良が頻出することになる
信頼できる筋からとの事なので確かなのだろうがそこで引っかかってるとすると割と絶望的というか……