キヤノン、ナノインプリントリソグラフィー装置をインテル、サムスン、DARPAが支援する米国研究所に
初のナノインプリントリソグラフィー装置を提供
//www.tomshardware.com/tech-industry/canon-delivers-first-nanoimprint-lithography-tool-to-us-institute-backed-by-intel-samsung-darpa
今後数年間で20台の販売を目指しています。
キヤノンとナノインプリントリソグラフィーにとって大きなブレークスルーとなる可能性があります。
キヤノンによると、NILは現在5nmテクノロジーでチップを製造することができ、最終的には2nmノードに達する可能性があります。

事実上はキオクシア以外の海外企業もナノインプリント採用を採用する路線に等しいな。
まあEUVの半額で先端プロセスが作れるのだから研究しないわけにはいかないのだが。