>>773
半導体向けレーザーでもこんなニュースが。

中国の科学者がチップ製造ツール用の固体DUVレーザー光源を開発　しかし、桁違いに貧弱
ttps://www.tomshardware.com/tech-industry/chinese-scientists-create-solid-state-duv-laser-sources-for-lithography-equipment-used-in-chip-manufacturing
＞平均出力70mW、周波数6kHzの固体レーザーを使用して193nmの光を生成し、880MHz未満の狭い線幅を実現します。
このテストシステムの出力は、9kHzの周波数で100〜120Wを供給するASMLのArFエキシマベースの
生産システムよりも桁違いに低くなっています。その低電力出力により、高いスループットとプロセスの安定性が
不可欠な商用半導体製造には適していません。これを実行可能なチップ製造用光源にするには、
何世代にもわたる開発が必要になる可能性があります。

キヤノンやニコンもASMLのArF露光装置置き換えでより強力な出力でスループット上げた新型を売り出しているので、
中国は試作レベルですら日欧の足元にも遠く及ばない模様。というかコメント欄で指摘されてた通り、
３０年前の当代の論文コピー研究だったらしい。この分だと軍用レーザーも西側のそれより遥かに劣る奴。