>>323
現状だとちょっと厳しい。
現時点でのEB描画装置は250nmで、装置が販売可能になるまであと1〜2年程度はかかりそうな感じだし。
MEMSやディスクリート回路の1チップ化なら十分だろうが、プロセッサならあと一桁微細化したいところ。