0389名無し三等兵 (ワッチョイ a969-6zBS)垢版 | 大砲2020/01/19(日) 00:36:17.34ID:lGhzWR8Z0 >>323 現状だとちょっと厳しい。 現時点でのEB描画装置は250nmで、装置が販売可能になるまであと1〜2年程度はかかりそうな感じだし。 MEMSやディスクリート回路の1チップ化なら十分だろうが、プロセッサならあと一桁微細化したいところ。